СИСТЕМА АНАЛИЗА ПОВЕРХНОСТИ XSAM-800 С МОДУЛЕМ ИЛО И КВАДРУПОЛЬНЫМ МАСС-СПЕКТРОМЕТРОМ HIDEN
Возможности (назначение):
Исследовательский сверхвысоковакуумный комплекс для формирования и in situ анализа тонкопленочных наноразмерных структур на поверхности твердотельных образцов. Включает модуль импульсного лазерного осаждения для формирования тонкопленочных слоев металлов, полупроводников и диэлектриков и нанокластеров, а также аналитическую камеру с методиками рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, оже-электронной спектроскопии, спектроскопии рассеяния медленных ионов, и масс-спектрометрии.
Области применения:
Исследование элементного и химического состава тонких пленок. Формирование и in situ анализ электронной структуры нанокластеров металлов на поверхности подложки. Исследование кинетики роста тонких пленок, кинетики окисления поверхности и нанокластеров, кинетических процессов при отжиге.
Основные технические характеристики:
Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия: чувствительность S~1%, локальность по поверхности Ls~2мм, разрешение по глубине Lh~3 нм, диапазон исследуемых глубин h~100 нм
Спектроскопия рассеяния медленных ионов: S~0.1%, Ls~2 мм, Lh~0.3 А, h~6 А
Импульсное лазерное осаждение: YAG:Nd лазер, 1 мДж, скорость осаждения 10^12-10^15 ат./см2 за импульс, длительность импульса осаждения ~1 мкс, точность ~0.01ML, толщина пленки от 0.01 ML до ~100 нм
Элементный состав на поверхности, профилирование по глубине (Вторично-ионная масс-спектрометрия), кинетика десорбции с поверхности: 1-300 а.е.м., чувств.- 1:107, энерг. фильтр +/- 100 эВ, пропускание- 10%.
Примеры экспериментальных результатов:
